光電材料表征技術(shù)

第1章 元素成分分析
1．1 X射線熒光光譜
1．1．1 X射線源
1．1．2 軔致輻射
1．1．3 X射線熒光光譜儀的基本原理
1．1．4 元素濃度
1．1．5 線掃描和面分布
1．1．6 影響定量分析的因素
1．1．7 掠入射/全反射X射線熒光
1．1．8 單色光源X射線熒光
1．1．9 真空環(huán)境X射線熒光
1．1．10 其他
1．2 X射線吸收譜
1．2．1 X射線吸收邊
1．2．2 X射線吸收譜的測(cè)量方法
1．2．3 應(yīng)用實(shí)例
1．2．4 其他
1．3 光電子能譜
1．3．1 光電子
1．3．2 光電子能譜儀的基本構(gòu)造
1．3．3 光電子峰的標(biāo)記
1．3．4 光電子能譜中的背景信號(hào)
1．3．5 光電子能譜的表面靈敏度
1．3．6 超高真空系統(tǒng)
1．3．7 表面清潔／濺射離子槍
1．3．8 中和電子槍
1．3．9 定量分析
1．3．10 電子能量分析器工作模式
1．3．11 微區(qū)分析、線掃描和面分布
1．3．12 樣品荷電
1．4 俄歇電子能譜
1．4．1 俄歇電子
1．4．2 俄歇電子峰的標(biāo)記
1．4．3 強(qiáng)度譜和微分譜
1．4．4 俄歇電子能譜的激發(fā)源
1．4．5 筒鏡式電子能量分析器一電子槍集成
1．4．6 球柵形阻止勢(shì)電子能量分析器
1．4．7 表面靈敏度
1．4．8 譜圖處理
1．4．9 表面荷電問題
1．4．10 俄歇電子峰的背景信號(hào)問題
1．4．11 微區(qū)分析、線掃描和面分布
1．4．12 電子束造成的表面損傷
1．4．13 電子能量分析器工作模式
1．5 二次離子質(zhì)譜
1．5．1 離子濺射
1．5．2 二次離子質(zhì)譜儀的基本結(jié)構(gòu)
1．5．3 離子的質(zhì)荷比
1．5．4 離子濺射產(chǎn)額
1．5．5 質(zhì)量分析器
1．5．6 應(yīng)用實(shí)例
1．5．7 定量分析
1．6 激光誘導(dǎo)擊穿光譜
1．6．1 基本原理
1．6．2 應(yīng)用實(shí)例
1．6．3 激光誘導(dǎo)擊穿光譜的特點(diǎn)
……
第2章 元素價(jià)態(tài)分析
第3章 晶體結(jié)構(gòu)分析
第4章 表面形貌分析
第5章 薄膜厚度測(cè)量
第6章 光學(xué)性能測(cè)量
第7章 電學(xué)性能測(cè)量