薄膜微帶電路是衛(wèi)星電子設(shè)備、機載電子設(shè)備、移動終端、通信基站、測試儀器等所必需的重要組成部分。本書系統(tǒng)介紹了薄膜微帶電路的制作流程、關(guān)鍵制成工藝、常見質(zhì)量問題及解決方法等, 是編者多年從事薄膜微帶電路制作、測試和試驗所積累經(jīng)驗的匯總。 本書共12章,主要內(nèi)容包括緒論、真空技術(shù)、常見基板表面成膜方法、薄膜電路基材、常用薄膜材料、光刻、電鍍金、薄膜電阻、外形加工、薄膜工藝中的其他重點技術(shù)、薄膜電路常見質(zhì)量問題及注意事項、薄膜微帶電路質(zhì)量檢驗方法。 本書可供薄膜電路工藝、薄膜電子材料、薄膜電路設(shè)計等領(lǐng)域的科技人員以及高等院校相關(guān)專業(yè)的師生學(xué)習(xí)參考。