直拉單晶硅工藝技術(shù)（第二版）

緒論1
第1章單晶硅的基本知識(shí)3
1.1晶體和非晶體3
1.2單晶和多晶7
1.3空間點(diǎn)陣和晶胞8
1.4晶面和晶向11
1.5晶體的熔化和凝固15
1.6結(jié)晶過(guò)程的宏觀特征16
1.7晶核的形成17
1.8二維晶核的形成18
1.9晶體的長(zhǎng)大19
1.10生長(zhǎng)界面結(jié)構(gòu)模型21
習(xí)題23
第2章直拉單晶爐25
2.1直拉單晶爐設(shè)備簡(jiǎn)介25
2.2直拉單晶爐的結(jié)構(gòu)26
2.3機(jī)械部分27
2.4電氣部分35
2.5直拉單晶爐的工作環(huán)境40
習(xí)題41
第3章直拉單晶爐的熱系統(tǒng)及熱場(chǎng)43
3.1熱系統(tǒng)43
3.2熱系統(tǒng)的安裝與對(duì)中46
3.3熱場(chǎng)47
3.4溫度梯度與單晶生長(zhǎng)47
3.5熱場(chǎng)的調(diào)整51
習(xí)題52
第4章晶體生長(zhǎng)控制器54
4.1CGC-101A型晶體生長(zhǎng)控制器功能簡(jiǎn)介54
4.2CGC-101A型晶體生長(zhǎng)控制器的開關(guān)狀態(tài)說(shuō)明55
4.3CGC-101A型晶體生長(zhǎng)控制器的鍵盤操作說(shuō)明56
4.4CGC-101A型晶體生長(zhǎng)控制器參數(shù)設(shè)置及定義61
4.5CGC-101A型晶體生長(zhǎng)控制器使用說(shuō)明64
習(xí)題65
第5章原輔材料的準(zhǔn)備67
5.1硅原料67
5.2石英坩堝72
5.3摻雜劑與母合金74
5.4其他材料75
5.5原輔材料的腐蝕和清洗76
5.6腐蝕原理及安全防護(hù)77
5.7自動(dòng)硅料清洗機(jī)簡(jiǎn)介78
習(xí)題80
第6章直拉單晶硅生長(zhǎng)技術(shù)81
6.1直拉單晶硅工藝流程81
6.2拆爐及裝料82
6.3抽空及熔料86
6.4引晶及放肩88
6.5轉(zhuǎn)肩及等徑91
6.6收尾及停爐93
6.7拉速、溫校曲線的設(shè)定95
6.8堝升速度的計(jì)算方法97
6.9異常情況及處理方法99
習(xí)題101
第7章鑄錠多晶硅工藝102
7.1光伏產(chǎn)業(yè)簡(jiǎn)介102
7.2鑄錠多晶硅爐的結(jié)構(gòu)103
7.3鑄錠多晶硅工藝流程105
7.4鑄錠多晶硅的優(yōu)缺點(diǎn)108
習(xí)題109
第8章?lián)诫s技術(shù)110
8.1雜質(zhì)110
8.2導(dǎo)電型號(hào)111
8.3熔硅中的雜質(zhì)效應(yīng)111
8.4雜質(zhì)的分凝效應(yīng)113
8.5Keff與K0的關(guān)系117
8.6結(jié)晶后固相中的雜質(zhì)分布規(guī)律118
8.7摻雜121
習(xí)題125
附錄1硅的物理化學(xué)性質(zhì)（300K）126
附錄2硅中雜質(zhì)濃度和電阻率關(guān)系127
附錄3元素周期表128
附錄4立方晶系各晶面（或晶向）間的夾角129
附錄5塵室的分級(jí)標(biāo)準(zhǔn)130
參考文獻(xiàn)131