新型激光器件與LIBS技術

第1篇新型激光器件
第1章光子晶體概論
1.1光子晶體簡介
1.1.1光子晶體的分類與結構
1.1.2光子晶體的特性
1.1.3光子晶體的理論研究方法
1.2光子晶體光子禁帶的數(shù)值模擬
1.2.1一維光子晶體中光傳輸矩陣
1.2.2一維光子晶體的色散曲線
1.2.3不同介質(zhì)材料對光子禁帶的影響
1.2.4介質(zhì)材料厚度比對光子禁帶的影響
1.2.5入射角對光子禁帶的影響
1.2.6周期數(shù)對光子禁帶的影響
1.3液晶簡介
1.3.1液晶的概念
1.3.2液晶的分類
1.3.3液晶的特性
1.4膽甾相液晶光子禁帶的數(shù)值模擬
第2章膽甾相液晶激光器
2.1激光的產(chǎn)生
2.2染料摻雜液晶激光器
2.3溫度調(diào)諧膽甾相液晶激光器實驗研究
2.3.1正性液晶溫度調(diào)諧膽甾相液晶激光器
2.3.2負性液晶溫度調(diào)諧膽甾相液晶激光器
2.4電場調(diào)諧膽甾相液晶激光器實驗研究
2.4.1器件結構設計及制作
2.4.2器件激光輻射特性測試分析
2.5空間位置調(diào)諧膽甾相液晶激光器實驗研究
2.5.1楔形盒膽甾相液晶激光器
2.5.2楔形盒膽甾相液晶激光器優(yōu)化
2.6光子態(tài)密度理論
2.6.1膽甾相液晶激光器光子態(tài)密度分布數(shù)值模擬
2.6.2溫度調(diào)諧膽甾相液晶激光器光子態(tài)密度分布數(shù)值模擬
2.6.3空間位置調(diào)諧膽甾相液晶激光器光子態(tài)密度分布數(shù)值模擬
2.7薄膜型液晶激光實驗研究
2.7.1構建于聚合物分散液晶薄膜的禁帶末端激光輻射
2.7.2器件的設計及制作
2.7.3器件輻射特性測試分析
第3章液晶隨機激光器
3.1隨機激光理論簡介
3.2光子晶體光纖中液晶隨機激光輻射實驗研究
3.2.1全反射型光子晶體光纖
3.2.2光子晶體光纖中液晶隨機激光輻射
3.3構建于聚合物分散液晶膜的隨機激光輻射實驗研究
3.3.1聚合物分散液晶膜的制備
3.3.2隨機激光閾值特性
3.3.3溫度對隨機激光輻射特性的影響
3.3.4寬波段隨機激光輻射的實現(xiàn)
第4章光譜激發(fā)大能量固體激光器
4.1燈泵浦大能量固體激光器
4.1.12焦耳高光束質(zhì)量脈沖激光器
4.1.2脈寬可調(diào)固體激光器
4.2LD脈沖泵浦被動調(diào)Q大能量全固態(tài)激光器
4.3高功率深紫外固體激光器
參考文獻
第2篇激光誘導擊穿光譜分析技術
第5章激光誘導擊穿光譜分析技術概述
5.1激光誘導擊穿光譜分析簡介
5.2LIBS分析基礎
5.2.1LIBS分析系統(tǒng)組成及分析方法概述
5.2.2激光與物質(zhì)作用過程
5.2.3激光誘導等離子體及其性質(zhì)
5.2.4發(fā)射譜線強度及其加寬
5.2.5LIBS的影響因素
5.3LIBS定量分析
5.3.1LIBS定量分析方法簡介
5.3.2定量分析方法及其改進
第6章LIBS自吸收效應
6.1LIBS自吸收效應簡介
6.2紫外激光擊穿銅合金光譜自吸收特性
6.3可見激光擊穿銅合金光譜自吸收特性
第7章LIBS增強方法
7.1空間約束增強
7.1.1自體空間約束增強
7.1.2激光熔穴LIBS增強
7.2長脈寬激光LIBS增強
第8章LIBS定量分析標準樣品
8.1標準樣品
8.2標準樣品均勻性檢驗方法
8.2.1ASTM的材料均勻性檢驗方法
8.2.2單因素方差分析的均勻性檢驗方法
8.3標準樣品的研制
8.3.1樣品制作
8.3.2均勻性檢驗
8.3.3定值分析方法
8.3.4標準值及其不確定度
參考文獻
附錄A部分元素靈敏線表
附錄B單因素方差分析F值下限值表