硅微機(jī)械加工技術(shù)

定　價(jià)：￥58.00

作　者：	（法）M.埃爾溫斯波克（M.Elwenspoek）、等著；姜巖峰譯
出版社：	化學(xué)工業(yè)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	集成電路

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ISBN：	9787502592585	出版時(shí)間：	2007-05-01	包裝：	平裝
開本：	16	頁(yè)數(shù)：	348	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　英國(guó)劍橋大學(xué)出版社出版的《Silicon Micromachining》是一本關(guān)于微系統(tǒng)加工工藝方面的專著，作者M(jìn).Elwenspoek和H.Jansen等人從事過多年微系統(tǒng)加工工藝方面的研究工作，具有非常豐富的研究經(jīng)驗(yàn)?！豆栉C(jī)械加工技術(shù)》的主要內(nèi)容包括：（1）硅的濕法腐蝕工藝及其物理機(jī)制的描述；（2）硅的表面微機(jī)械加工技術(shù)；（3）LIGA工藝；（4）硅——硅直接鍵合工藝；（5）硅的干法腐蝕工藝及物理機(jī)制等，涵蓋了微機(jī)械系統(tǒng)加工工藝中的主要內(nèi)容，而且其內(nèi)容經(jīng)過多次修訂，并在法國(guó)和英國(guó)等大學(xué)試用。《硅微機(jī)械加工技術(shù)》基本概念清楚，具有一定參考價(jià)值，適合MEMS領(lǐng)域工程技術(shù)人員、研究生和高年級(jí)本科生閱讀和使用。

作者簡(jiǎn)介

暫缺《硅微機(jī)械加工技術(shù)》作者簡(jiǎn)介

圖書目錄

1 簡(jiǎn)介
參考文獻(xiàn)
2 各向異性濕法腐蝕
2.1 簡(jiǎn)介
2.2 單晶硅的機(jī)械特性
2.3 硅的晶體特性
2.4 腐蝕過程
2.5 實(shí)驗(yàn)方法
2.6 各向異性腐蝕劑的特性
2.7 〈100〉和〈110〉晶向硅片的微機(jī)械加工
2.8 腐蝕自停止機(jī)理
2.9 掩模材料
2.10 邊角補(bǔ)償
2.11 其他
參考文獻(xiàn)
3 濕法化學(xué)腐蝕的化學(xué)物理機(jī)制
3.1 簡(jiǎn)介
3.2 晶體知識(shí)回顧：表面的原子結(jié)構(gòu)
3.3 表面自由能和階梯自由能
3.4 熱動(dòng)力學(xué)
3.5 動(dòng)力學(xué)
3.6 腐蝕速率圖
3.7 階梯狀的直接顯示
3.8 總結(jié)
參考文獻(xiàn)
4 硅片鍵合
4.1 簡(jiǎn)介
4.2 硅熔融鍵合（SFB）
4.3 陽(yáng)極鍵合
4.4 低溫鍵合
參考文獻(xiàn)
5 實(shí)例和應(yīng)用
5.1 簡(jiǎn)介
5.2 薄膜
5.3 梁
參考文獻(xiàn)
6 表面微機(jī)械加工
6.1 簡(jiǎn)介
6.2 表面微機(jī)械處理中的基本制造工藝
6.3 應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
7 硅的各向同性濕法化學(xué)腐蝕
7.1 腐蝕液和腐蝕速率圖
7.2 擴(kuò)散和攪拌
7.3 掩模材料
7.4 陽(yáng)極HF腐蝕
參考文獻(xiàn)
8 微機(jī)械加工技術(shù)中干法等離子刻蝕技術(shù)簡(jiǎn)介
8.1 微機(jī)械加工技術(shù)
8.2 等離子體
8.3 刻蝕
8.4 概況
參考文獻(xiàn)
9 為何采用等離子體刻蝕
9.1 氣體刻蝕
9.2 濕法刻蝕
9.3 干法刻蝕
參考文獻(xiàn)
10 什么是等離子刻蝕
11 等離子體系統(tǒng)配置
12 接觸式等離子體刻蝕
13 遠(yuǎn)程等離子體刻蝕
14 高深寬比溝槽刻蝕
15 微型結(jié)構(gòu)的鑄模
16 可動(dòng)的微結(jié)構(gòu)的制造
關(guān)鍵詞英漢對(duì)照