微納米加工技術(shù)及其應(yīng)用

定　價(jià)：￥40.20

作　者：	崔錚
出版社：	高等教育出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	納米技術(shù)

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ISBN：	9787040168808	出版時(shí)間：	2005-06-01	包裝：	平裝
開(kāi)本：	16開(kāi)	頁(yè)數(shù)：	293	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　本書(shū)旨在綜合介紹近年來(lái)微納米加工技術(shù)的進(jìn)展。全書(shū)共分為8章以微納米加工的關(guān)鍵技術(shù)為主線，即微納米光刻技術(shù)，其中包括光學(xué)曝光加工，電子束曝光加工，聚焦離子束加工，微納米圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)，微納米圖形復(fù)制技術(shù)，重點(diǎn)介紹這寫(xiě)技術(shù)的特點(diǎn)，典型設(shè)備，關(guān)鍵工藝技術(shù)，與其他類似技術(shù)的比較，近年來(lái)的新發(fā)展，未來(lái)的發(fā)展趨勢(shì)。在介紹中以國(guó)際上近年來(lái)發(fā)表的文獻(xiàn)為基礎(chǔ)，包括作者近十余年來(lái)在這一領(lǐng)域的研究成果和經(jīng)驗(yàn)。每一種技術(shù)的介紹著重解釋清楚基本概念。不偏重于深?yuàn)W的理論，而側(cè)重于闡述實(shí)際應(yīng)用中所遇到的問(wèn)題和解決辦法。本書(shū)的最后一章為微納米加工技術(shù)的應(yīng)用，包括了當(dāng)今最熱門(mén)的高科技領(lǐng)域，如微納米電子學(xué)，高密度磁存儲(chǔ)，微機(jī)電系統(tǒng)，生物芯片與納米技術(shù)。介紹微納米加工技術(shù)在這些領(lǐng)域的所起的關(guān)鍵作用。全書(shū)各章都附有詳細(xì)的參考文獻(xiàn)。本書(shū)最后附有中英文名詞對(duì)照與索引。為讀者進(jìn)一步參閱國(guó)外文獻(xiàn)資料提供了方便。本書(shū)的讀者對(duì)象為大專院校高年級(jí)研究生，大學(xué)教師，從事微電子工藝，微系統(tǒng)技術(shù)與納米技術(shù)的科學(xué)工作者及工程技術(shù)人員，從事微電子工藝技術(shù)，超大規(guī)模集成電路工藝技術(shù)的從業(yè)人員。

作者簡(jiǎn)介

暫缺《微納米加工技術(shù)及其應(yīng)用》作者簡(jiǎn)介

圖書(shū)目錄

第1章緒論
1.1 微納米技術(shù)與微納米加工技術(shù)
1.2 微納米加工技術(shù)的分類
1.3 本書(shū)的內(nèi)容與結(jié)構(gòu)
參考文獻(xiàn)
第2章光學(xué)曝光技術(shù)
2.1 光學(xué)曝光方式與原理
2.2 光學(xué)曝光的工藝過(guò)程
2.3 光刻膠的特性
2.4 光學(xué)掩模版的設(shè)計(jì)與制作
2.5 突破光學(xué)曝光分辨率的新技術(shù)
2.6 光學(xué)曝技術(shù)的極限
2.7 厚膠曝光技術(shù)
2.8 灰度曝光技術(shù)
2.9 光學(xué)曝光的計(jì)算機(jī)模擬設(shè)計(jì)
參考文獻(xiàn)
第3章電子束曝光技術(shù)
3.1 電子光學(xué)原理
3.2 電子束曝光系統(tǒng)
3.3 電子束曝光圖形的設(shè)計(jì)與數(shù)據(jù)格式
3.4 電子束抗蝕劑及其工藝
3.5 電子束散射與鄰近效應(yīng)
3.6 電子束曝光鄰近效應(yīng)的校正
3.7 電子束曝光的計(jì)算機(jī)模擬
3.8 電子束曝光的極限分辨率
參考文獻(xiàn)
第4章聚焦離子束加工技術(shù)
4.1 液態(tài)金屬離子源
4.2 聚焦離子束系統(tǒng)
4.3 離子在固體材料中的散射
4.4 聚焦離子束加工原理
4.5 聚焦離子束加工技術(shù)的應(yīng)用
4.6 聚焦離子束曝光技術(shù)
4.7 聚焦離子束注入技術(shù)
參考文獻(xiàn)
第5章 X射線曝光技術(shù)
第6章刻蝕技術(shù)
第7章復(fù)制技術(shù)
第8章微納米加工技術(shù)的應(yīng)用
中英文名詞對(duì)照索引
結(jié)束語(yǔ)